6月17日消息，在半導(dǎo)體工藝進入7nm節(jié)點之后，EUV光刻機是少不了的關(guān)鍵設(shè)備，目前只有ASML能制造，單臺售價10億人民幣，今年底還會迎來下一代EUV光刻機，價格也會大漲。

光刻機的分辨率越高，越有利于制造更小的晶體管，而分辨率也跟光刻機物鏡的NA數(shù)值孔徑有直接關(guān)系，目前的EUV光刻機是NA=0.33技術(shù)的，下代EUV光刻機則是提升到NA=0.55。

根據(jù)ASML公司高管日前透露的消息，NA=0.55的EUV光刻機今年底會出貨首個商用原型，2025年會正式量產(chǎn)。

他沒有公布具體哪家公司會首發(fā)NA=0.55光刻機，但之前英特爾公司表示他們會率先使用下代EUV光刻機，已經(jīng)巨資提前下單。

按照2025年出貨的時間點來看，臺積電、英特爾、三星的2nm級別工藝是趕不上的，最快也要到1.4nm工藝才能用上NA=0.55光刻機，未來生產(chǎn)1nm工藝則是不可少的設(shè)備。

伴隨技術(shù)提升的還有售價，由于更加復(fù)雜、精密，NA=0.55的EUV光刻機價格大幅上漲，具體多少不確定，此前消息稱不低于4億美元，人民幣接近30億元了，是現(xiàn)在的2-3倍。

這還不排除未來正式商用的時候價格進一步上漲，畢竟還要好幾年才能上市。

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